第一七四六章 最后定调 (第2/2页)
　　
　　尼康半导体公司会长兼cEo森佳照明在尼康公司拥有超过25年的经验，在美国、欧洲和韩国的销售和营销方面担任过高层，深得前会长吉田一郎的赏识。
　　
　　“会长，我听说，ASmL如今等待bSEc的国际纯净水介质核心专利通过后授权，既然bSEc同意授权ASmL，就会授权我们，bSEc当年拿到双工作台系统的国际专利后也授权给了我们。”
　　
　　“诺利克先生，彼一时此一时，如今bSEc的技术实力快赶上了我们，独霸全球65nm制程工艺的市场份额，正是超过我们的最好时机，我们不能抱有侥幸心理。”
　　
　　“我支持会长的意见，既然我们已经掌握了多项157nm干式光刻路线的核心技术，引领全球，我们还要加大投资，争取早日研发成功45nm制程工艺，就能重新夺回被bSEc抢走的高端芯片市场份额。”
　　
　　尼康半导体公司副总裁兼尼康光刻机半导体研究所所长小川郁子，负责开发157nm干式光刻机的研发，支持森佳照明。
　　
　　“大家都知道，公司到如今还没有预定一台157nm干式光刻机，65nm制程工艺的市场份额已经被bSEc和ASmL瓜分，我听说GcA正在游说三星晶圆厂购买其量产的浸没式光刻机，我们面临的情况非常糟糕。我建议公司继续研发45nm制程工艺的同时，公司投资开始研发浸没式光刻机，两条腿走路！”
　　
　　常务副总裁原田弘树负责尼康光刻机的生产和销售，由于bSEc浸没式光刻机率先问世，制程工艺达到65nm，还是双工作台，如今正在建设的6条65nm制程工艺的半导体生产线，除了台积电采购了ASmL浸没式光刻机外，其他5条都是采购bSEc浸没式光刻机，公司已经失去了65nm制程工艺光刻机的市场份额，忧心忡忡，开始怀疑公司全球领先的157nm干式光刻机路线。
　　
　　即使公司率先研制成功45nm制程工艺的干式光刻机，购买了65nm制程工艺浸没式光刻机的晶圆厂，更换干式光刻机需要对生产线进行重新设计，掩膜保护膜也要更新，如果投资很大，没有绝对把握，他们不愿意轻易投资。
　　
　　“我支持会长的意见，公司重新投入巨资研发浸没式光刻机，如今两条腿走路，公司的财务支持会吃不消。”
　　
　　尼康半导体公司财务副总裁梅根·兰布林也支持森佳照明。
　　
　　“我希望光刻机研究所早日研发成功45nm制程工艺的光刻机。”
　　
　　主持会议的吉田一郎最后总结，给公司的发展路线最后定调。
　　
　　（本章完）